詳細(xì)摘要: XLNCESMX-BEN臺(tái)式能量色散X射線熒光分析儀(EDXRF)為工藝開發(fā)、過程控制和質(zhì)量保證等領(lǐng)域提供無損檢測、薄膜層厚和成分的測量手段
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產(chǎn)品型號:所在地:深圳市更新時(shí)間:2024-09-05 在線留言詳細(xì)摘要: SMX-ILH的熱屏蔽技術(shù)可使熱基板在高達(dá)300?C下實(shí)時(shí)進(jìn)行X射線熒光數(shù)據(jù)采集,減少面板的停留時(shí)間,提高加工能力
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